導光膜、超薄型液晶背光單元和便攜式計算機制造技術

本發明專利技術的目的是提供導光膜、超薄型液晶背光單元和便攜式計算機，能促進薄型化并能防止亮度降低。所述超薄型液晶背光單元和便攜式計算機具備所述導光膜。本發明專利技術的導光膜的平均厚度為600μm以下，含有主要成分的芳香族聚碳酸酯系樹脂以及抗氧化劑，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.01～0.1質量份的比例含有所述抗氧化劑，所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的重均分子量為2.0×104～5.0×104，通過凝膠滲透色譜法測量到的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的按聚苯乙烯換算的重均分子量和數均分子量之比為1.0～2.5，所述導光膜是通過擠出成形法成形的。

【技術實現步驟摘要】
導光膜、超薄型液晶背光單元和便攜式計算機
本專利技術涉及導光膜、超薄型液晶背光單元和便攜式計算機。
技術介紹
液晶顯示裝置普及了從背面照射液晶層而使其發光的背光方式，在液晶層的下側的面一側安裝有側光型、正下方型等背光單元。通常如圖5所示，所述的側光型背光單元110包括位于液晶顯示部最背面的頂板116、配置在所述頂板116的表面的反射片115、配置在所述反射片115的表面的導光板111、以及向所述導光板111的端面照射光的光源117（參照日本專利公開公報特開2010―177130號）。在所述圖5的側光型背光單元110中，光源117照射并入射到導光板111中的光在導光板111內傳輸。所述傳輸的光的一部分從導光板111的背面射出，被反射片115反射，重新入射到導光板111中。為了提高具備所述的液晶顯示部的便攜式計算機的便攜性和便利性，對所述便攜式計算機要求薄型化和輕量化，伴隨與此，對液晶顯示部也要求薄型化。特別是在被稱為超極本（注冊商標）的、殼體的最厚部分為21mm以下的超薄型便攜式計算機中，希望液晶顯示部的厚度為從4mm到5mm的程度，對組裝到液晶顯示部中的側光型背光單元也要求更進一步的薄型化。在所述的超薄型便攜式計算機的側光型背光單元210中，除了具有配置在圖5所示的導光板111的背面的反射片115的背光單元以外，如圖6所示，也提出有不使用圖5那樣的反射片115來實現薄型化的方案。如圖6所示的側光型背光單元210包括金屬制的頂板216、層疊在所述頂板216的表面的導光板211、以及向所述導光板211的端面照射光的光源217，對頂板216的表面進行研磨，使頂板216的表面具有作為反射面216a的功能。光源217射出并入射到導光板211中的光在導光板211內傳輸，所述傳輸的光的一部分從導光板211的背面射出，被頂板216的表面的反射面216a反射，重新入射到導光板211中。由于圖6所示的側光型背光單元210的頂板216的表面是反射面216a，所以變成所述反射面216a替代圖5的反射片115的結構。因此側光型背光單元210變成不需要反射片115，從而能夠實現液晶顯示部的薄型化。在這樣的超薄型便攜式計算機的側光型背光單元中，由于要使液晶顯示部的厚度成為所述的程度，所以要求導光膜的平均厚度為600μm以下。另一方面，以往的導光膜是以聚碳酸酯系樹脂或丙烯酸系樹脂等為主要成分并通過射出成型法制造的。可是如果利用以往的射出成型法，則制造與筆記本電腦等這樣的大屏幕對應的薄型導光膜是非常困難的。此外，也可以考慮使用所述以往的樹脂并通過擠出成形法來制造導光膜，但是在該情況下，存在下述問題：在片成形時產生白色渾濁、因耐擦傷性能不足造成的損傷、因尺寸穩定性不足造成產生莫爾紋等，由此會使亮度降低。現有技術文獻專利文獻1：日本專利公開公報特開2010－177130號
技術實現思路
鑒于所述的問題，本專利技術的目的是提供即使是筆記本電腦這樣的大屏幕也能對其進行應對的、并且能促進薄型化、并能防止亮度降低的導光膜。此外，本專利技術的另外的目的是提供能夠抑制亮度不均、并能實現薄型化的超薄型液晶背光單元和便攜式計算機。為了解決所述的問題，本專利技術提供一種導光膜，其是把從端面入射的光線從表面大體均勻地射出的、平均厚度為600μm以下的超薄型液晶背光單元用的導光膜，含有主要成分的芳香族聚碳酸酯系樹脂以及抗氧化劑，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.01質量份以上0.1質量份以下的比例含有所述抗氧化劑，所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的重均分子量為2.0×104以上5.0×104以下，通過凝膠滲透色譜法測量到的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的按聚苯乙烯換算的重均分子量和數均分子量之比（Mw/Mn）為1.0以上2.5以下，所述導光膜是通過擠出成形法成形的。通過使該導光膜的芳香族聚碳酸酯系樹脂的重均分子量、以及通過凝膠滲透色譜法測量到的芳香族聚碳酸酯系樹脂的按聚苯乙烯換算的重均分子量和數均分子量之比（Mw/Mn）在所述范圍內，能夠提高擠出成形性，并且能夠提高成形后的透光率和機械強度。因此，該導光膜能夠使平均厚度在所述范圍內，并且能夠應對大屏幕化。此外，該導光膜通過以所述比例含有抗氧化劑，能夠防止成形時變黃，能夠防止亮度降低。此外，該導光膜由于主要成分是芳香族聚碳酸酯系樹脂，所以與丙烯酸系樹脂相比吸水性低，由此能夠提高尺寸穩定性。優選的是，所述導光膜的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的熔體體積流動速率為15cm3/10分鐘以上80cm3/10分鐘以下，所述熔體體積流動速率是在300℃、1.2kg負荷的條件下測量的。由此能夠提高擠出成形性。優選的是，所述導光膜的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的支化率（分岐率）為0.5mol%以上1.5mol%以下。由此，能夠防止熔融張力降低，能夠提高擠出成形性，并且能夠提高成形后的透明度，能夠提高透光率。優選的是，所述導光膜還含有重均分子量為1000以上10000以下的聚苯乙烯系樹脂，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.1質量份以上3質量份以下的比例含有所述聚苯乙烯系樹脂。由此，能夠提高透光率。優選的是，所述導光膜的波長300nm的光譜透光率（分光光線透過率）為65%以上。由此，能夠提高導光性，并能提高亮度。優選的是，所述導光膜還含有熱塑性聚丙烯酸系樹脂，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.01質量份以上1質量份以下的比例含有所述熱塑性聚丙烯酸系樹脂。由此，能夠提高光譜透光率。優選的是，所述導光膜在背面側具有擴散圖案。由此，能夠調整從該導光膜的表面射出的光線的射出特性，能夠提高面均勻性。優選的是，所述導光膜的所述擴散圖案由多個光散射部構成，所述多個光散射部是通過激光照射顯色得到的。由此，能夠容易且可靠地形成所希望的擴散圖案。此外，在通過這樣的方法形成擴散圖案的情況下，由于無需在該導光膜的背面設置凸部等，所以能夠促進薄型化。為了解決所述的問題，本專利技術還提供一種超薄型液晶背光單元，其包括：頂板，位于液晶顯示部的最背面，該頂板的表面形成為反射面；如上所述構成的所述導光膜，層疊在所述頂板的表面；以及光源，向所述導光膜的端面照射光。該超薄型液晶背光單元由于具備擠出成形性得到提高并且透光率和機械強度得到了提高的所述導光膜，所以能夠促進薄型化，并且能夠應對大屏幕化。此外，該超薄型液晶背光單元由于不使用以往那樣的反射片，所以能夠促進薄型化。優選的是，所述超薄型液晶背光單元的頂板是金屬制的，反射面的算術平均粗糙度（Ra）為0.2μm以下。該超薄型液晶背光單元由于頂板是金屬制的，所以通過對表面進行研磨可以容易且可靠地形成反射面。此外，如果反射面的算術平均粗糙度在0.2μm以下，則從該導光膜的背面射出的光容易被反射面鏡面反射，光的利用效率高，此外，反射面的表面變得平坦，難以損傷與反射面接觸的該導光膜的背面。此外，為了解決所述的問題，本專利技術提供一種超薄型液晶背光單元，其包括：頂板，位于液晶顯示部的最背面；反射片，層疊在所述頂板的表面；如上所述構成的所述導光膜，層疊在所述反射片的表面；以及光源，向所述導光膜的端面照射光。該超薄型液晶背光單元即使利用該結構，也能夠通過具備透光率和機械強度得到提高的該導光膜，能夠促進薄型化，并且能夠應對本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種導光膜，其特征在于，所述導光膜是把從端面入射的光線從表面大體均勻地射出的、平均厚度為600μm以下的超薄型液晶背光單元用的導光膜，含有主要成分的芳香族聚碳酸酯系樹脂以及抗氧化劑，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.01質量份以上0.1質量份以下的比例含有所述抗氧化劑，所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的重均分子量為2.0×104以上5.0×104以下，通過凝膠滲透色譜法測量到的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的按聚苯乙烯換算的重均分子量和數均分子量之比（Mw/Mn）為1.0以上2.5以下，所述導光膜是通過擠出成形法成形的。

【技術特征摘要】
2013.02.25 JP 2013-0352091.一種導光膜，其特征在于，所述導光膜是把從端面入射的光線從表面大體均勻地射出的、平均厚度為600μm以下的超薄型液晶背光單元用的導光膜，含有主要成分的芳香族聚碳酸酯系樹脂以及抗氧化劑，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.01質量份以上0.1質量份以下的比例含有所述抗氧化劑，所述導光膜還含有重均分子量為1000以上10000以下的聚苯乙烯系樹脂，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.1質量份以上3質量份以下的比例含有所述聚苯乙烯系樹脂，所述導光膜還含有熱塑性聚丙烯酸系樹脂，相對于100質量份的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂，以0.01質量份以上1質量份以下的比例含有所述熱塑性聚丙烯酸系樹脂，所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的重均分子量為2.0×104以上5.0×104以下，通過凝膠滲透色譜法測量到的所述芳香族聚碳酸酯系樹脂的按聚苯乙烯換算的重均分子量和數均分子量之比Mw/Mn為1.0以上2.5以下，所述導光膜是通過擠出成形法成形的，表面具有波形微細調制結構，微細調制結構的山脊線間隔為1mm以上500mm以下，以微細調制結構的多個山谷線通過的近似虛擬面為基準的山脊線的平均高度為5μm以上40μm以下，波...

【專利技術屬性】
技術研發人員：中嶋宏紀，古田旭，
申請(專利權)人：惠和株式會社，
類型：發明
國別省市：日本;JP