一種改進的條碼刻蝕設備制造技術

本實用新型專利技術公開了一種改進的條碼刻蝕設備，結構中包括機基座，基座上設置有傳送帶、支架和激光器，支架上滑動設置有滑軌，滑軌上固定設置有出光孔，滑軌通過第一調節器調節上下的位置，激光器內設置有一個分光鏡，分光鏡分出的一條光路從出光孔射出，另一條光路通過光纖引導從光斑質量檢測孔射出，光斑質量檢測孔與出光孔處于同一水平高度上；傳送帶側面設置有一個定位塊，傳送帶上部設置有一個下壓塊，定位塊上設置有第二調節器，下壓塊上設置有CMOS傳感器；基座外側設置有濾光罩。本實用新型專利技術能夠改進現有技術的不足，提高了激光焦點和待刻蝕條碼產品相對位置的穩定，并實現了位置偏差的實時監控，保證了刻蝕的清晰度。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本技術公開了一種改進的條碼刻蝕設備，結構中包括機基座，基座上設置有傳送帶、支架和激光器，支架上滑動設置有滑軌，滑軌上固定設置有出光孔，滑軌通過第一調節器調節上下的位置，激光器內設置有一個分光鏡，分光鏡分出的一條光路從出光孔射出，另一條光路通過光纖引導從光斑質量檢測孔射出，光斑質量檢測孔與出光孔處于同一水平高度上；傳送帶側面設置有一個定位塊，傳送帶上部設置有一個下壓塊，定位塊上設置有第二調節器，下壓塊上設置有CMOS傳感器；基座外側設置有濾光罩。本技術能夠改進現有技術的不足，提高了激光焦點和待刻蝕條碼產品相對位置的穩定，并實現了位置偏差的實時監控，保證了刻蝕的清晰度?！緦＠f明】一種改進的條碼刻蝕設備
本技術涉及條碼制作領域，尤其是一種改進的條碼刻蝕設備。
技術介紹
隨著機器視覺技術的發展，條碼識別功能被廣泛應用于各種工業生產領域。為了使產品上的條碼清晰易讀，制作快捷，各種條碼制作設備應運而生，其中條碼刻蝕設備是其中重要的一種。條碼刻蝕設備制作的條碼具有耐腐蝕，使用壽命長的特點。但是，條碼刻蝕設備在制作條碼時也容易出現激光焦點變化導致的輻照能量偏差，從而影響刻蝕清晰度的問題。
技術實現思路
本技術要解決的技術問題是提供一種刻蝕設備，能夠解決現有技術的不足，提高了激光焦點和待刻蝕條碼產品相對位置的穩定，并實現了位置偏差的實時監控，保證了刻蝕的清晰度。為解決上述技術問題，本技術所采取的技術方案如下。一種改進的條碼刻蝕設備，結構中包括機基座，基座上設置有傳送帶、支架和激光器，支架上滑動設置有滑軌，滑軌上固定設置有出光孔，滑軌通過第一調節器調節上下的位置，出光孔通過光纖與激光器相連，出光孔內設置有兩個相互垂直的振鏡，激光器內設置有一個分光鏡，分光鏡分出的一條光路從出光孔射出，另一條光路通過光纖引導從光斑質量檢測孔射出，光斑質量檢測孔和出光孔剛性連接，光斑質量檢測孔與出光孔處于同一水平高度上；傳送帶側面設置有一個定位塊，傳送帶上部設置有一個下壓塊，定位塊上設置有第二調節器，下壓塊上設置有CMOS傳感器，CMOS傳感器的受光面與下壓塊的底面處于同一水平高度，CMOS傳感器連接至工控機，定位塊和下壓塊連接有氣缸；基座外側設置有濾光罩。作為優選，所述第一調節器和第二調節器的旋鈕上設置有千分尺。作為優選，所述滑軌的上下位置分別設置有鎖緊螺母。作為優選，所述滑軌和出光孔之間設置有穩定桿。作為優選，所述基座采用大理石材質。作為優選，所述分光鏡的透/反光比為1:1。采用上述技術方案所帶來的有益效果在于:本技術通過分光鏡將激光分為兩束，一束用于條碼刻蝕，另一束用于對激光輻照能量的監控。由于光斑質量檢測孔與出光孔處于同一水平高度上，CMOS傳感器的受光面與下壓塊的底面處于同一水平高度，分光鏡的透/反光比為1:1，所以CMOS傳感器接受的激光輻照強度即為照射在刻蝕表面的激光輻照強度。通過定位塊和下壓塊的定位，可以使每個產品的刻蝕位置恒定。當檢測發現激光的輻照強度變化時，可以通過調整第一調節器來改變出光孔的上下位置，以恢復激光對產品表面的原始輻照強度。通過相互垂直的兩個振鏡的兩次反射，可以改變激光在二維空間內的出光角度，實現不同結構條碼的刻蝕。調節第二調節器可以改變產品的固定位置，從而改變條碼在產品上的位置。采用大理石基座可以增加整個設備的穩定性，避免振動對激光刻蝕的影響。第一調節器和第二調節器的旋鈕上設置的千分尺可以提高調節精度?；壍纳舷挛恢迷O置的鎖緊螺母可以避免滑軌在受到外力作用時與支架產生相對運動?；壓统龉饪字g設置的穩定桿可以避免出光孔相對于滑軌出現相對晃動。基座外側的濾光罩可以防止激光輻射對人身的危害?！緦＠綀D】【附圖說明】圖1是本技術一個【具體實施方式】的示意圖。【具體實施方式】參照圖1，本技術的結構中包括機基座1，基座I上設置有傳送帶2、支架3和激光器4，支架3上滑動設置有滑軌5，滑軌5上固定設置有出光孔6，滑軌5通過第一調節器11調節上下的位置，出光孔6通過光纖7與激光器4相連，出光孔6內設置有兩個相互垂直的振鏡8，激光器4內設置有一個分光鏡9，分光鏡9分出的一條光路從出光孔6射出，另一條光路通過光纖7引導從光斑質量檢測孔10射出，光斑質量檢測孔10和出光孔6剛性連接，光斑質量檢測孔10與出光孔6處于同一水平高度上；傳送帶2側面設置有一個定位塊12，傳送帶2上部設置有一個下壓塊13，定位塊12上設置有第二調節器21，下壓塊13上設置有CMOS傳感器14，CMOS傳感器14的受光面與下壓塊13的底面處于同一水平高度，CMOS傳感器14連接至工控機15，定位塊12和下壓塊13連接有氣缸16 ;基座I外側設置有濾光罩17。值得注意的是，所述第一調節器11和第二調節器21的旋鈕上設置有千分尺18。值得注意的是，所述滑軌5的上下位置分別設置有鎖緊螺母19。值得注意的是，所述滑軌5和出光孔6之間設置有穩定桿20。值得注意的是，所述基座I采用大理石材質。此外，所述分光鏡9的透/反光比為1:1。其中，工控機15采用西門子公司的SIMATIC IPC547C型號工控機，激光光斑質量分析軟件使用Spiricon公司的BeamGage軟件。本技術的工作原理是:本技術通過分光鏡9將激光分為兩束，一束用于條碼刻蝕，另一束用于對激光輻照能量的監控。由于光斑質量檢測孔10與出光孔6處于同一水平高度上，CMOS傳感器14的受光面與下壓塊13的底面處于同一水平高度，分光鏡9的透/反光比為1:1，所以CMOS傳感器14接受的激光輻照強度即為照射在刻蝕表面的激光輻照強度。通過定位塊12和下壓塊13的定位，可以使每個產品的刻蝕位置恒定。當檢測發現激光的輻照強度變化時，可以通過調整第一調節器11來改變出光孔6的上下位置，以恢復激光對產品表面的原始輻照強度。通過相互垂直的兩個振鏡8的兩次反射，可以改變激光在二維空間內的出光角度，實現不同結構條碼的刻蝕。調節第二調節器21可以改變產品的固定位置，從而改變條碼在產品上的位置。采用大理石的基座I可以增加整個設備的穩定性，避免振動對激光刻蝕的影響。第一調節器11和第二調節器21的旋鈕上設置的千分尺18可以提高調節精度?；?的上下位置設置的鎖緊螺母19可以避免滑軌5在受到外力作用時與支架3產生相對運動。滑軌5和出光孔6之間設置的穩定桿20可以避免出光孔6相對于滑軌5出現相對晃動?；鵌外側的濾光罩17可以防止激光輻射對人身的危害。以上顯示和描述了本技術的基本原理和主要特征和本技術的優點。本行業的技術人員應該了解，本技術不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本技術的原理，在不脫離本技術精神和范圍的前提下，本技術還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本技術范圍內。本技術要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定?！緳嗬蟆?.一種改進的條碼刻蝕設備，其特征在于:結構中包括機基座(1)，基座(I)上設置有傳送帶(2)、支架(3)和激光器(4)，支架(3)上滑動設置有滑軌(5)，滑軌(5)上固定設置有出光孔(6)，滑軌(5)通過第一調節器(11)調節上下的位置，出光孔(6)通過光纖(本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種改進的條碼刻蝕設備，其特征在于：結構中包括機基座（1），基座（1）上設置有傳送帶（2）、支架（3）和激光器（4），支架（3）上滑動設置有滑軌（5），滑軌（5）上固定設置有出光孔（6），滑軌（5）通過第一調節器（11）調節上下的位置，出光孔（6）通過光纖（7）與激光器（4）相連，出光孔（6）內設置有兩個相互垂直的振鏡（8），激光器（4）內設置有一個分光鏡（9），分光鏡（9）分出的一條光路從出光孔（6）射出，另一條光路通過光纖（7）引導從光斑質量檢測孔（10）射出，光斑質量檢測孔（10）和出光孔（6）剛性連接，光斑質量檢測孔（10）與出光孔（6）處于同一水平高度上；傳送帶（2）側面設置有一個定位塊（12），傳送帶（2）上部設置有一個下壓塊（13），定位塊（12）上設置有第二調節器（21），下壓塊（13）上設置有CMOS傳感器（14），CMOS傳感器（14）的受光面與下壓塊（13）的底面處于同一水平高度，CMOS傳感器（14）連接至工控機（15），定位塊（12）和下壓塊（13）連接有氣缸（16）；基座（1）外側設置有濾光罩（17）。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李偉，
申請(專利權)人：天津市拓恒信息技術有限公司，
類型：實用新型
國別省市：