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本實用新型公開了一種用于真空鍍膜機的支架，包括支架框（1）和支架橫桿（2），其特征在于所述的支架框（1）呈倒“V”形設置，支架橫桿（2）的兩端固定設置在支架框（1）的側臂上，且支架框（1）從上至下設有二～四層支架橫桿（2）。本實用新型通過采...
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