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一種測量鏡面形補償效果的方法，應用該方法的光刻機包括照明系統、承載掩模的掩模臺、投影物鏡成像系統、承載基底的基底臺、掩模臺干涉儀系統、掩模對準系統，掩模臺貼附有長條鏡，干涉儀光束通過長條鏡反射，控制掩模臺運動，該方法包括上載具有測試標記的掩...
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