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本發(fā)明涉及原子層沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于原子層沉積設(shè)備的氣體分配器。所述用于原子層沉積設(shè)備的氣體分配器，所述氣體分配器設(shè)置在原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔室內(nèi)，位于所述反應(yīng)腔室內(nèi)基片臺的上方；所述氣體分配器為環(huán)型或U型的氣路管道，所述氣路...該專利屬于中國科學(xué)院微電子研究所所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過中國科學(xué)院微電子研究所授權(quán)不得商用。