溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。
本實用新型提供一種真空蒸鍍裝置，其能夠維持離子源的效率且不會使裝置大型化，并且能夠提高維護性。在具備照射離子或等離子體等能量粒子的能量粒子源的真空蒸鍍裝置中，提供能量粒子源的維護性高的真空蒸鍍裝置。真空蒸鍍裝置構(gòu)成為具備：拱頂型的基板保持構(gòu)...該專利屬于株式會社新柯隆所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過株式會社新柯隆授權(quán)不得商用。