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本發(fā)明涉及一種銅銦鎵硒薄膜太陽(yáng)能電池光吸收層薄膜的制備方法，其特征在于，使用四元銅銦鎵硒單靶射頻磁控濺射制備銅銦鎵硒薄膜，不涉及傳統(tǒng)的后續(xù)硒化退火工藝。首先使用直流磁控濺射在鈉鈣玻璃襯底上制備雙層鉬薄膜作為金屬背電極，然后在鉬背電極上使用射...該專利屬于電子科技大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)電子科技大學(xué)授權(quán)不得商用。