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本發(fā)明涉及一種基于參照源的分段線性非均勻矯正方法。它是將成像系統(tǒng)的工作范圍分為N段，在每一段內(nèi)使用兩點(diǎn)校正法。這樣就大大減少了由于探測(cè)器響應(yīng)的非線性給兩點(diǎn)校正法造成的誤差，而且相對(duì)來說更容易在硬件上進(jìn)行實(shí)現(xiàn)。...該專利屬于河北漢光重工有限責(zé)任公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過河北漢光重工有限責(zé)任公司授權(quán)不得商用。