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本發(fā)明適用于材料鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，公開了一種采用激光加熱的PVD設(shè)備，包括殼體，所述殼體具有密封的腔體，所述腔體內(nèi)設(shè)有用于容放靶材的蒸發(fā)舟，所述殼體兩相對的側(cè)面分別開設(shè)有供待鍍材料進入的進料口、供所述待鍍材料離開的出料口，所述腔體內(nèi)還設(shè)置有用于...該專利屬于王奉瑾所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過王奉瑾授權(quán)不得商用。