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本發(fā)明提供一種消除旁瓣圖形的方法，包括：提供一個襯底，在襯底上依次形成目標(biāo)材料層、硬掩膜層、第一底部抗反射層和第一光刻膠；經(jīng)曝光和光刻，用第一掩膜版圖形在硬掩膜層上定義出旁瓣圖形區(qū)域；在硬掩膜層上依次涂布第二底部抗反射層和第二光刻膠；經(jīng)曝光...該專利屬于上海集成電路研發(fā)中心有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過上海集成電路研發(fā)中心有限公司授權(quán)不得商用。