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一種亞波長抗反射結構的制作方法，該制作方法利用化學氧化還原反應制備的金屬層在快速退火時金屬層會發生自凝聚現象，然后金屬層形成納米結構的金屬粒子；再利用金屬粒子作為干法刻蝕的掩模進行干法刻蝕，最后形成亞波長的抗反射結構。本發明的制作方法，可以...該專利屬于蘇州大學;蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過蘇州大學;蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司授權不得商用。