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本實用新型公開了一種防指紋保護膜，所述防指紋保護膜包括離型膜、第一基膜和第二基膜，所述離型膜設置在所述第一基膜的下端面，所述第二基膜設置在所述第一基膜的上端面；所述防指紋保護膜還包括防指紋硬化處理層，所述防指紋硬化處理層設置在所述第一基膜和...該專利屬于納諾電子化學（蘇州）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過納諾電子化學（蘇州）有限公司授權不得商用。
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本實用新型公開了一種防指紋保護膜，所述防指紋保護膜包括離型膜、第一基膜和第二基膜，所述離型膜設置在所述第一基膜的下端面，所述第二基膜設置在所述第一基膜的上端面；所述防指紋保護膜還包括防指紋硬化處理層，所述防指紋硬化處理層設置在所述第一基膜和...