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本發(fā)明提供具有優(yōu)良的耐濕熱性等、且用于光記錄介質的配位化合物，其由下述式(I)所示的化合物、金屬、和選自由通過在胺上加上一個以上質子而形成的離子、銨離子以及季銨離子組成的組中的一種構成，式(I)中，R1表示可具有取代基的烷基等，R2表示氰基...該專利屬于KH新化株式會社所有，僅供學習研究參考，未經過KH新化株式會社授權不得商用。
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