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一種變焦距光刻物鏡系統，屬于光學技術領域，本發明為了解決現有光刻物鏡無法實現同一光刻物鏡曝光出不同比例大小的掩模板曝光圖形的問題，本發明系統從物面到像面依次為：物面、第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、第四透鏡組、第五透鏡組和像面；物面為掩...該專利屬于中國科學院長春光學精密機械與物理研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院長春光學精密機械與物理研究所授權不得商用。
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一種變焦距光刻物鏡系統，屬于光學技術領域，本發明為了解決現有光刻物鏡無法實現同一光刻物鏡曝光出不同比例大小的掩模板曝光圖形的問題，本發明系統從物面到像面依次為：物面、第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、第四透鏡組、第五透鏡組和像面；物面為掩...