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本發(fā)明公開了一種用于吸收太赫茲輻射的粗糙黑化金屬薄膜及其制備方法，該超薄金屬膜被所述金屬活性刻蝕劑的氟基等離子體轟擊處理，氟基等離子體的物理轟擊使金屬薄膜表面粗糙化。同時(shí)，通過調(diào)節(jié)刻蝕時(shí)氟離子能量與濃度，使大量氟離子吸附到金屬薄膜粗糙表面并...該專利屬于電子科技大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過電子科技大學(xué)授權(quán)不得商用。