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一種熱蒸發鍍膜設備的熱蒸發源，包括用于沉積薄膜的襯底、用于裝載蒸發材料的坩堝，及用于加熱所述坩堝的加熱組件；所述坩堝上設有多個與所述襯底相對的噴嘴，所述多個噴嘴中的每兩個相鄰噴嘴之間的距離不全相等。采用非均勻分布的噴嘴排列方式，改變了每個噴...該專利屬于深圳先進技術研究院;香港中文大學所有，僅供學習研究參考，未經過深圳先進技術研究院;香港中文大學授權不得商用。
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一種熱蒸發鍍膜設備的熱蒸發源，包括用于沉積薄膜的襯底、用于裝載蒸發材料的坩堝，及用于加熱所述坩堝的加熱組件；所述坩堝上設有多個與所述襯底相對的噴嘴，所述多個噴嘴中的每兩個相鄰噴嘴之間的距離不全相等。采用非均勻分布的噴嘴排列方式，改變了每個噴...