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本發(fā)明涉及一種激光輔助清除硅晶片等基體表面納米顆粒的方法和裝置，特指一種利用激光聚焦將空氣介電擊穿形成急劇膨脹的等離子體，等離子體周圍空氣被快速壓縮成為較強(qiáng)的沖擊波陣面而直接作用于基體表面使納米顆粒受到力或滾動力矩的作用與晶片或光掩模等基體...該專利屬于江蘇大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過江蘇大學(xué)授權(quán)不得商用。