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本發明涉及半導體清洗工藝技術領域,具體涉及一種防止液體飛濺的清洗裝置及具有該裝置的清洗系統。該防止液體飛濺的清洗裝置,包括上殼和下殼,上殼可相對下殼上下運動,上殼包括上殼內壁和上殼外壁,上殼內壁和上殼外壁之間形成中空腔,上殼內壁上設有多個進...該專利屬于北京七星華創電子股份有限公司所有,僅供學習研究參考,未經過北京七星華創電子股份有限公司授權不得商用。
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