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本發明涉及用于研磨研磨對象物（1）的被研磨面的研磨劑（5），其含有：平均一次粒徑為5～20nm的第一氧化硅微粒、平均一次粒徑為40～110nm的第二氧化硅微粒和水，且所述第一氧化硅微粒在所述第一氧化硅微粒和第二氧化硅微粒的總量中占的比例為0...
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