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本發(fā)明公開了一種集紫外光/臭氧表面處理與電學(xué)性質(zhì)原位測(cè)試的真空設(shè)備，主要由真空腔室、紫外光源系統(tǒng)、真空泵系統(tǒng)和真空設(shè)備控制系統(tǒng)以及電子元件測(cè)試系統(tǒng)組成，真空腔室由高真空內(nèi)腔室和低真空外腔室組成：外腔室頂端固定紫外燈光源；內(nèi)腔室具有高度可調(diào)節(jié)...該專利屬于上海交通大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過上海交通大學(xué)授權(quán)不得商用。