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一種用于硅基片表面處理的噴丸材料和硅基片的制備方法。所述噴丸材料，包括碳化硅顆粒，所述碳化硅顆粒的中粒徑為1μm～30μm。所述硅基片的制備方法，硅基片的至少一個表面經由所述噴丸材料以轟擊的方式進行表面處理。因為用于轟擊的碳化硅顆粒的粒徑較...該專利屬于圣戈班研發（上海）有限公司;圣戈班陶瓷材料（牡丹江）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過圣戈班研發（上海）有限公司;圣戈班陶瓷材料（牡丹江）有限公司授權不得商用。