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本發(fā)明公開了一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液,包括用于粗拋的拋光液和用于精拋的拋光液;其中:所述粗拋的拋光液包括:納米磨料5~10wt%,氧化劑為1.5~3wt%,表面活性劑0.01wt%,pH調(diào)節(jié)劑,余量為去離子水,粒度為60~100nm,P...該專利屬于中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所所有,僅供學(xué)習(xí)研究參考,未經(jīng)過中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所授權(quán)不得商用。