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本發明公開了一種用于刻蝕電控衍射光學器件的激光直寫刻蝕系統及利用其制備電控衍射光學器件的方法，該系統包括用于發射單束激光束的激光器、用于固定刻蝕樣品的可控載物臺、激光倍頻系統和光束整形系統，優點是通過激光倍頻系統將激光器發射的單束激光束轉換...
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