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本發明屬于對位方法技術領域,公開了一種基板掩膜對位方法,首先在一掩膜版上形成多組對位標記圖案,并選取若干個大尺寸基板作為樣本基板,通過該掩膜版分別在每塊樣本基板上形成多組對位標記圖案,將樣本基板分為多個子基板區域,然后對樣本基板實施掩膜工藝...該專利屬于京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司所有,僅供學習研究參考,未經過京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司授權不得商用。