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本發明屬于光通訊、光電子技術領域，特別涉及一種層狀插層改性復合材料及其實現負折射的方法。本發明通過直接反應法、離子交換法、分子嵌入法、剝離重組法、納米粒子直接插層法、納米粒子原位生成法等插層方法向層狀材料單晶材料中插入金屬納米顆粒等，從而增...
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