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一種干涉測量光學材料均勻性的方法，將光學材料加工成前后表面具有一定的夾角α的樣品，利用干涉儀通過五次波面測量，然后計算得到樣品的光學均勻性，為絕對測量結(jié)果。特別適合于待測元件超過干涉儀測試口徑的大口徑元件測量。...
該專利屬于中國科學院上海光學精密機械研究所所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過中國科學院上海光學精密機械研究所授權(quán)不得商用。

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