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本發明公開了一種多光譜保護薄膜及其制備方法，其中保護薄膜為氮氧化鉿多光譜保護薄膜；其制備方法包括清潔真空室、清洗基底、安裝靶材和多光譜硫化鋅基片、真空室抽真空、預濺射和離子束反應濺射制備多光譜氮氧化鉿薄膜。本發明鍍制的多光譜氮氧化鉿（HfO...該專利屬于中國航天科技集團公司第五研究院第五一0研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國航天科技集團公司第五研究院第五一0研究所授權不得商用。