溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。
本實用新型的目的在于公開一種背面對準(zhǔn)光刻誤差的校驗裝置，它包括硅基板，硅基板的表面刻制有一校準(zhǔn)圖形區(qū)域，在所述校準(zhǔn)圖形區(qū)域的表面沉積一鈍化層，所述硅基板的背面刻蝕有一深槽圖形區(qū)域，所述深槽圖形區(qū)域的底部與所述鈍化層的底部相平齊；與現(xiàn)有技術(shù)相...該專利屬于慧石（上海）測控科技有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過慧石（上海）測控科技有限公司授權(quán)不得商用。