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本發(fā)明公開了一種真空控制系統(tǒng)，應(yīng)用于半導體器件制造。其中，儲能腔室與第一隔離閥并聯(lián)連接于工作腔室與真空泵之間；第二隔離閥連接于儲能腔室與工作腔室之間；第三隔離閥連接于儲能腔室與真空泵之間；控制單元與第一隔離閥，第二隔離閥以及第三隔離閥相連，...該專利屬于上海集成電路研發(fā)中心有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過上海集成電路研發(fā)中心有限公司授權(quán)不得商用。