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本發明實施例提供了一種基于緩沖層進行深刻蝕的掩蔽方法，該方法包括：在襯底上形成功能材料層；在所述功能材料層上形成緩沖層；在所述緩沖層上涂敷一層抗蝕劑材料；對所述抗蝕劑材料進行平面曝光，在所述抗蝕劑材料上形成預設的微結構圖形；將抗蝕劑材料上的...該專利屬于深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創新技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創新技術有限公司授權不得商用。