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本發(fā)明涉及一種用于隱密性防偽印刷光譜分析設備，包括從下到上依次設置的光譜印刷層(1)、刮開層(2)、釋放層(3)和基材層(4)，所述的光譜印刷層(1)上表面設有刮開層(2)，所述的刮開層(2)上表面設有釋放層(3)，所述的釋放層(3)上表面...該專利屬于上海東港安全印刷有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過上海東港安全印刷有限公司授權(quán)不得商用。