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包括至少一種基質材料和至少一種摻雜材料的有機半導體材料，其中，選用由輻射三烯化合物制成的摻雜材料，并且其中，選用由三聯苯二胺化合物制成的基質材料；以及有機構件；和用于制造經摻雜的半導體層的混合物。...該專利屬于諾瓦萊德公開股份有限公司;森西特圖像技術有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過諾瓦萊德公開股份有限公司;森西特圖像技術有限公司授權不得商用。
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