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本發(fā)明提供一種用于研磨含鈷元素的層的研磨劑，所述研磨劑含有由選自鄰苯二甲酸化合物、間苯二甲酸化合物以及下述通式（I）表示的烷基二元羧酸化合物及他們的鹽以及酸酐中的至少一種構(gòu)成的羧酸衍生物、金屬防蝕劑與水，pH在4.0以下。通式（I）中，R表...該專利屬于日立化成工業(yè)株式會社所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過日立化成工業(yè)株式會社授權(quán)不得商用。