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一種可提高工藝套準精度的曝光方法，包括以下順序步驟：首先使用第一曝光圖形對硅片光刻曝光，再用第二曝光圖形對硅片光刻曝光，使得硅片表面形成相間隔分布的圖案單元，所述第一曝光圖案和第二曝光圖案制在同一掩模板上。本發明提供的方法能解決步進式重復曝...
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