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本發明公開了一種用于光刻設備的流體處理結構、一種光刻設備和一種器件制造方法。所述流體處理結構在配置用于將浸沒流體限制在流體處理結構之外的區域的空間的邊界處具有：彎液面釘扎特征，用以抵抗浸沒流體沿徑向向外方向離開所述空間；線性陣列形式的多個氣...
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