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本發明公開了一種用于浸沒式光刻機的階梯式自適應氣體密封裝置。該氣體密封裝置是在投影透鏡組和襯底之間的裝置，由上構件、下構件和旋轉構件組成。在光刻掃描過程中，伴隨襯底高速運動對浸沒液體的牽拉作用，浸沒流場的邊界形態會發生迅速變化。該裝置內部采...
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