溫馨提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。
本發(fā)明提供的一種具有多孔結(jié)構(gòu)的雙大馬士革結(jié)構(gòu),包括從下到上依次形成的金屬互連層、刻蝕阻擋層、氧化物層、第一介電絕緣層、第二介電絕緣層、金屬層和孔,所述孔設(shè)于所述金屬互連層和金屬層之間,所述第一介電絕緣層的介電常數(shù)為2.7~3.0,所述第二介...該專利屬于上海華力微電子有限公司所有,僅供學(xué)習(xí)研究參考,未經(jīng)過上海華力微電子有限公司授權(quán)不得商用。