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本發明涉及一種O.J二極管生產工藝，其創新點在于所述步驟為：在硅片鍍鎳后涂覆光阻膠；在硅片的N+面光刻圖形；利用硅片N+面的圖形作為劃片下刀參考線進行劃片；對劃片后的芯片臺面進行酸腐蝕；去除表面的光阻膠再次鍍鎳；然后經焊接、堿洗、梳條以及其...
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