溫馨提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。
一種半導(dǎo)體的制造方法。于一蝕刻機(jī)臺(tái)中提供一基底，基底上形成有多個(gè)第一導(dǎo)體圖案、一阻障層以及一圖案化絕緣層，其中第一導(dǎo)體圖案之間具有多個(gè)第一開(kāi)口，阻障層覆蓋第一導(dǎo)體圖案的表面與第一開(kāi)口的表面，圖案化絕緣層形成于第一導(dǎo)體圖案上且具有多個(gè)第二開(kāi)口...該專(zhuān)利屬于南亞科技股份有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)南亞科技股份有限公司授權(quán)不得商用。