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一種閉合磁場非平衡磁控濺射鍍膜設(shè)備，主要應(yīng)用于高離化率的反應(yīng)磁控濺射鍍膜領(lǐng)域。本實用新型包括鍍膜室、鍍膜室門、工件轉(zhuǎn)架、圓柱磁控靶、充氣系統(tǒng)、靶擋板及真空抽氣口，鍍膜室門通過鉸鏈固定在鍍膜室上，在鍍膜室的外壁上設(shè)有真空抽氣口，在鍍膜室的下蓋...該專利屬于愛發(fā)科中北真空（沈陽）有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過愛發(fā)科中北真空（沈陽）有限公司授權(quán)不得商用。