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本發明公開了一種等離子體處理裝置。等離子體處理裝置（1）包括：反應室（100）；上部電極（200），配置在反應室（100）的內部，被施加電源以產生等離子體；多個調節部（400），與上部電極（200）連接，用于調節上部電極（200）的形狀；以...
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