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提供能夠抑制氧向硅錠中溶解的硅錠鑄造用層壓坩堝及其制造方法。選擇硅錠鑄造用層壓坩堝（1），該層壓坩堝是用于熔解硅原料并進行鑄造硅錠的硅錠鑄造用層壓坩堝，其特征在于，具備：設置在鑄模（2）的內側的二氧化硅層（3），和設置在二氧化硅層（3）的表...該專利屬于三菱綜合材料株式會社;三菱材料電子化成株式會社所有，僅供學習研究參考，未經過三菱綜合材料株式會社;三菱材料電子化成株式會社授權不得商用。