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本實用新型涉及一種等離子體處理設備，所述設備包括：腔室，形成執行等離子體工藝的處理空間，且包括開口，通過該開口能夠將襯底運入所述處理空間或從所述處理空間中取出；第一封蓋部件，被安裝成覆蓋所述開口的內周表面，以防止所述內周表面被等離子體蝕刻，...
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