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一種磁控濺射設(shè)備，包括殼體、靶材、爐盤及多個擋板；所述殼體開設(shè)有反應(yīng)腔；所述靶材收容于反應(yīng)腔內(nèi)并固定于所述殼體的內(nèi)壁上；所述爐盤收容于反應(yīng)腔內(nèi)，所述爐盤固定于所述殼體的內(nèi)壁并與所述靶材相對；所述多個擋板設(shè)置于所述殼體的內(nèi)壁上，分布于所述爐盤...該專利屬于中國科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院;香港中文大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過中國科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院;香港中文大學(xué)授權(quán)不得商用。