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本發明屬于薄膜制備領域，具體地說是一種用于制備非晶薄膜的電弧離子鍍冷卻裝置及其應用，冷卻裝置包括冷凝劑輸入管、冷凝劑輸出管、法蘭盤、絕緣墊圈及樣品臺，其中法蘭盤通過絕緣墊圈密封安裝在電弧離子鍍爐體上，所述冷凝劑輸入管及冷凝劑輸出管的一端分別...
該專利屬于中國科學院金屬研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院金屬研究所授權不得商用。

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