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本發明屬于光催化薄膜技術領域，具體為一種三層結構的摻鉬TiO2光催化薄膜及其制備方法。三層結構中，底層為高濃度摻鉬TiO2薄膜，中間為低濃度摻鉬TiO2薄膜，頂層為純TiO2薄膜；本發明利用多靶射頻磁控共濺射技術原位制備三層結構的鉬摻雜Ti...
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