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本發(fā)明公開了一種含兩性離子的荷正電納濾膜及其制備方法。該荷正電納濾是由超濾膜支撐層和膜表面含季銨基團(tuán)的單體與含兩性離子的單體輻照接枝獲得的聚合物接枝層為功能層組成的，制備過(guò)程為：以聚合物超濾膜為基膜，將含有季銨基團(tuán)的單體和含有兩性離子的單體...該專利屬于南京林業(yè)大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)南京林業(yè)大學(xué)授權(quán)不得商用。