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一種基底制程裝置，包括：一個(gè)腔室，其具有一內(nèi)部空間，在該內(nèi)部中間中相對(duì)于一個(gè)基底實(shí)施一個(gè)制程；以及一個(gè)排出單元，其用于將內(nèi)部空間中的物質(zhì)排出到外部。所述排出單元包括：一個(gè)第一排出板，其位于物質(zhì)的排出路徑的上游，該第一排出板具有第一排出孔；以...該專利屬于株式會(huì)社ＥＵＧＥＮＥ科技所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過株式會(huì)社ＥＵＧＥＮＥ科技授權(quán)不得商用。