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本發明涉及半導體技術領域，解決了傳統靜電吸盤無法適用于復雜的刻蝕工藝環境，同時難以精確控制靜電吸盤表面各處溫度的技術問題，尤其涉及一種新型刻蝕靜電吸盤、溫度自適應控制裝置及方法，包括劃分區域、獲取實時的溫度數據、建立初始數學模型、優化初始數...該專利屬于邁睿捷（南京）半導體科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過邁睿捷（南京）半導體科技有限公司授權不得商用。
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