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本發明公開了一種可均勻鍍膜的真空離子鍍膜裝置，涉及鍍膜裝置技術領域，包括支撐板，所述支撐板的上端設置有真空鍍膜裝置主體，所述真空鍍膜裝置主體的一側設置有防護門；本設計的真空離子鍍膜裝置，在真空鍍膜裝置主體的內壁需要清理時，通過升降電機的輸出...該專利屬于伊特克斯惰性氣體系統（北京）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過伊特克斯惰性氣體系統（北京）有限公司授權不得商用。
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